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北京世纪锋华科技有限公司生产的二氧化硅抛光液是以高纯度硅粉为原料,经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光产品。广泛用于多种材料纳米级的高平坦化抛光。如:硅片、化合物晶体、精密光学器件、宝石等的抛光加工。根据不同的抛光要求可分为不同粒度(10~120 nm)的产品;根据pH值的不同可分为酸性抛光液和碱性抛光液。
产品特点:
1)高抛光速率,利用大粒径的胶体二氧化硅粒子达到高速抛光的目的
2)粒度可控,根据不同需要,可生产不同粒度的产品(10-120 nm)
3) 高纯度(Cu含量小于50 ppb),有效减小对电子类产品的沾污
4)高平坦度加工,本品抛光利用SiO2的胶体粒子,不会对加工件造成物理损伤,达到高平坦化加工
产品参数:
成份 | 含量(wt%) |
二氧化硅 | 10-40 |
钠离子 | 0.5 |
重金属杂质 | 50ppb |
助剂 | 5 |
常用包装规格 | 5公斤,25公斤,50公斤 250公斤,1000公斤 |
应用领域:
1、 铝合金手机中框抛光,适用五轴机叠抛或单抛,也可以用于平面抛光。对6系、7系铝合金具有非常优异的出光效果。
2、 硬盘基片的抛光,SiO2磨料呈球形,具有粒度均匀、分散性好、平坦化效率高等优点。
3、 硅晶圆、蓝宝石等半导体及衬底材料的粗抛和精抛,具有抛光速率高,抛光后易清洗,表面粗糙度低,能够得到总厚偏差(TTV)极小的质量表面。
4、其他领域的应用,如不锈钢、光学玻璃等领域,抛光后能达到良好的抛光效果
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